設備概要

測定可能元素

H He
Li Be B C N O F Ne
Na Mg Al Si P S Cl Ar
K Ca Sc Ti V Cr Mn Fe Co Ni Cu Zn Ga Ge As Se Br Kr
Rb Sr Y Zr Nb Mo Tc Ru Rh Pd Ag Cd In Sn Sb Te I Xe
Cs Ba La Hf Ta W Re Os Ir Pt Au Hg Ti Pb Bi Po At Rn
Fr Ra Ac Rf Db Sg Bh Hs Mt Ds Rg Cn Uut Fl Uup Lv Uus Uuo
La Ce Pr Nd Pm Sm Eu Gd Tb Dy Ho Er Tm Yb Lu
Ac Th Pa U Np Pu Am Cm Bk Cf Es Em Md No Lr
測定可能範囲凡例
    最外殻準位～1sまで測定可能
    最外殻準位～2sまで測定可能
    最外殻準位～3sまで測定可能

装置仕様

装置仕様

システム ScientaOmicron社 HAXPES-Lab
アナライザ ScientaOmicron社 EW4000
X線源 excillum社 MetalJet D2+ (Ga)
ScientaOmicron社 XM1000 MKII(モノクロAl)
中和銃 PREVAC社 FS40A1
スパッタ Ionoptika社 GCIB-10S
(Arガスクラスターイオン銃)

装置性能

Ｘ線エネルギー Ga (9251.74 eV)
モノクロAl (1486.6 eV)
エネルギー分解能 ～500 meV (Ga)
～300 meV (Al)
Ｘ線スポットサイズ 30 μm(V) × 45 μm(H) (カタログ値)
空間分解能 0.3 mm(V) × 0.6 mm(H)
測定範囲 0.3 mm(V) × 1.7 mm(H)

付属機器

試料ホルダー Cu製専用試料ホルダー
トランスファーベッセル 嫌気試料用のトランスファーベッセル
搭載数7個
多試料用試料ホルダー 多試料測定用の試料ホルダー
幅 10mm × 縦 100mm × 10面
イオン銃 ロードロックチャンバーのイオン銃
Arスパッタによる前処理が可能
カーボンコーター チャージアップ防止用にカーボンをコーティング可能
Osコーター チャージアップ防止用にOsをコーティング可能
簡易蒸着装置 真空加熱蒸着
試料用デシケーター 測定試料の一時保管用  

付属設備

付属設備を使用する場合は利用申請時に事前申請が必要です。

ユーザー滞在室 実験中のユーザー用滞在室
机、椅子、ロッカー、水道、ベッド（仮眠可能）
化学実験室 ドラフター、ヒーター、試料用冷蔵・冷凍庫、超音波洗浄機、ガラス器具